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半导体湿法清洗使用超纯水（UPW），因为普通水中含有金属离子、颗粒物、有机杂质和微生物，这些污染物会附着在晶圆表面，造成颗粒缺陷、离子污染甚至影响后续光刻、刻蚀和薄膜沉积工艺。超纯水具有极低的电阻率杂质和极高洁净度，能够有效去除药液残留，避免二次污染，保障晶圆表面洁净度和工艺良率。江苏清芯半导体科技有限公司的湿法清洗设备支持高标准UPW循环与精准漂洗控制，可确保清洗过程稳定可靠，满足高洁净半导体制程要求。
