设备选型为什么重要？
湿法设备选型直接影响工艺稳定性、产品良率、运行成本及后期扩展能力。
选型错误可能造成温控不稳定、颗粒污染、节拍不足、兼容性差及维护成本过高。
第一步：按工艺选设备（可以根据清洗目的选型）
KOH湿法刻蚀
适合硅各向异性刻蚀、MEMS结构释放。
RCA清洗
适合颗粒、有机物及金属离子去除。
有机清洗
适合NMP去胶、PR残留清洗。
酸碱刻蚀
适合氧化层去除与表面处理。
多功能湿法台
适合需要多功能清洗需求的场景。
复合湿法平台
多工艺集成，工艺流程自由选配。
第二步：按晶圆尺寸选
| 晶圆尺寸 | 推荐设备 | 适用场景 |
|---|---|---|
| 2–4英寸（含碎片） | 科研级湿法平台 | 高校实验室、研发验证 |
| 4–6英寸 | 半自动槽式设备 | MEMS开发、中试线 |
| 6–8英寸 | 全自动湿法设备 | 批量生产 |
| 2–8英寸兼容 | 模块化定制平台 | 多尺寸切换客户 |
第三步：按自动化程度选
| 类型 | 特点 | 推荐客户 |
|---|---|---|
| 手动设备 | 成本低，灵活 | 高校、科研、工艺验证 |
| 半自动设备 | 效率与成本平衡 | 高校、中试验证 |
| 全自动设备 | 稳定性高，节拍快 | 量产客户 |
| 科研级湿法刻蚀全自动设备 | 研发型、全自动、安全性高、工艺灵活 | 高校、研究所、FAB工艺验证 |
第四步：按应用场景选
高校科研
推荐科研级湿法刻蚀全自动设备。
MEMS开发
推荐6英寸半自动槽式设备。
功率器件
推荐6–8英寸全自动平台。
小批量试产
推荐模块扩展型设备。
量产线
推荐全自动控制设备。
多工艺客户
推荐复合湿法平台、科研级湿法刻蚀全自动设备。
江苏清芯推荐选型表
| 客户需求 | 推荐方案 |
|---|---|
| 预算有限，研发验证 | 手动设备 |
| MEMS工艺开发 | 半自动设备、全自动设备 |
| 复杂去胶清洗 | 有机清洗设备 |
| 量产/FAB | 全自动湿法刻蚀设备 |
FAQ
如何判断选手动还是全自动？
主要看产能、预算和工艺重复性要求。
2–8英寸能否共线？
可通过模块化夹具和参数切换兼容。
江苏清芯支持定制吗？
支持按工艺、尺寸、节拍及自动化程度深度定制。
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技术热线：153-3509-8891
