DIW漂洗工艺解决方案|超纯水漂洗设备|江苏清芯半导体

什么是DIW漂洗?

DIW漂洗是利用18MΩ超纯去离子水对晶圆表面进行残液置换、离子清除及颗粒带走的重要湿法工艺。

广泛应用于酸洗、碱洗、RCA、有机清洗及刻蚀后的漂洗过程。

常见DIW漂洗问题

离子残留

漂洗不足会导致酸碱离子残留,影响后续工艺稳定性。

颗粒污染

水路洁净度不足或过滤失效会造成颗粒返附。

电阻率波动

DIW品质下降会影响漂洗洁净度。

漂洗不均

流场死角导致局部残液无法完全置换。

排液效率低

QDR节拍设计不合理会影响换液效率。

水痕残留

干燥衔接不佳会产生水痕或表面斑点。

江苏清芯DIW漂洗方案

模块清芯方案作用
DIW喷淋全覆盖喷淋系统快速带走表面残液
鼓泡N₂鼓泡辅助增强液体扰动
溢流系统持续溢流更新提高换液效率
QDR快排高速进排水控制降低残留浓度
过滤系统0.1–0.2μm过滤减少颗粒污染
在线监测电阻率实时监控保证DIW品质稳定

推荐DIW工艺参数

参数推荐值
DIW电阻率≥18MΩ·cm
漂洗时间3–8 min
QDR循环次数3–5次
过滤精度0.1–0.2μm
水温20–25℃

常用DIW漂洗方式

方式特点适用场景
喷淋漂洗快速冲刷表面残液去除
鼓泡漂洗增强扰动深槽结构
溢流漂洗持续置换高洁净需求
QDR快排高效率换液量产节拍优化

适用场景

RCA漂洗

去除SC1/SC2残液。

KOH后漂洗

降低碱残留污染。

有机清洗后漂洗

置换NMP及IPA残液。

FAQ

为什么DIW电阻率必须≥18MΩ?

确保超纯水离子含量极低,避免离子污染。

QDR的作用是什么?

快速置换槽液,提高漂洗效率并降低残留。

为什么DIW后还要干燥?

避免表面形成水痕和残液印。

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