江苏清芯半导体科技有限公司(Tsin-X)
湿法工艺技术中心
聚焦半导体湿法清洗、KOH刻蚀、RCA清洗、酸碱刻蚀、有机物清洗等;清洗物不限于晶圆(各材质衬底)、Parts及功率器件等。持续分享湿法设备技术与应用解决方案。
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江苏清芯半导体科技有限公司

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江苏清芯半导体:专注于半导体湿法清洗设备的技术研究

浏览: 作者: 来源: 时间:2026-02-24 分类:企业动态

一、公司概况与发展定位

江苏清芯半导体科技有限公司(简称“清芯半导体”)是一家专注于半导体湿法清洗设备研发、制造与销售的高科技企业。公司致力于为集成电路、功率器件、MEMS传感等领域提供高性能、高可靠性的湿法工艺解决方案,助力中国半导体制造装备自主可控。

清芯半导体汇聚了来自国内顶尖半导体设备企业和科研院所的技术专家,核心团队在湿法工艺设备领域拥有十余年的研发设计与量产交付经验。公司坚持以技术创新为驱动,以客户需求为导向,持续为芯片制造客户提供湿法清洗、蚀刻及去胶等工艺设备。

二、核心技术能力

清芯半导体的核心技术优势体现在对半导体湿法工艺的深刻理解与系统集成能力:

工艺腔体设计方面,公司掌握高洁净度、高耐腐蚀性腔体的设计与制造技术,采用优质抗腐蚀材料与精密加工工艺,确保设备在苛刻化学环境下的长期稳定运行。

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药液循环与温控系统方面,公司自主研发高精度药液循环过滤与温度控制系统,实现药液浓度、温度、流量的精准调控,保障工艺一致性与重复性。

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自动化传输系统方面,公司具备晶圆自动传输、机械手设计、多腔体协同控制等核心能力,可兼容4英寸至8英寸不同规格晶圆,满足多样化产线需求。

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工艺控制软件方面,公司开发了具有自主知识产权的设备控制软件,实现工艺参数的精准设定、实时监控与数据追溯,助力客户实现智能化生产管理。

三、主要产品系列

清芯半导体目前已形成覆盖半导体湿法工艺主要环节的完备产品线,可根据客户需求提供标准化设备与定制化解决方案。

单晶圆清洗设备是公司的核心产品之一,采用自旋喷淋与兆声清洗技术,可实现颗粒、金属离子及有机残留的高效去除,具备优异的片间一致性与低化学品消耗特点,适用于逻辑芯片、存储芯片及功率器件的关键清洗工序。

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批次式湿法清洗台针对大批量生产需求设计,可同时处理多批晶圆,具备高产能、高稳定性的优势。设备配备多槽体组合结构,集成清洗、蚀刻、去胶、干燥等多种工艺模块,广泛应用于功率半导体、MEMS传感器及其它半导体的生产制造。

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湿法蚀刻设备专注于实现各类高选择性、高均匀性蚀刻。公司通过精确的药液配比与温度控制,配合独特的喷淋或浸泡方式,确保蚀刻速率精准可控,满足不同客户对关键尺寸和形貌的工艺要求。

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客户支持与服务

清芯半导体始终秉持“设备交付不是终点,而是长期合作的起点”的服务理念,建立覆盖全国主要半导体产业集聚区的技术支持网络。公司为客户提供从工艺验证、设备安装调试到日常维护、备件供应的全生命周期服务,确保设备稳定高效运行,助力客户快速实现产能爬坡与良率提升。

企业愿景

江苏清芯半导体将继续深耕湿法清洗设备领域,以“技术创新、精益制造、极致服务”为核心竞争力,持续提升产品性能与可靠性,拓展工艺节点应用。公司立志成为国内领先、国际知名的半导体湿法设备供应商,为中国半导体产业链自主安全发展贡献“清芯”力量。